标签：光刻胶

打破日美垄断国产ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺

打破日美垄断国产ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺

dawei 通讯 2020年5月24日

打破日美垄断国产ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺

日本7月起将限制韩国进口含显示和半导体PI等材料

日本7月起将限制韩国进口含显示和半导体PI等材料

dawei 安卓资讯 2019年6月30日

【手机中国新闻】据6月30日产经新闻报道，日本政府将从7月4日起修订对韩国进口管理的政策。从7月1日起，将对应用于OLED显示零部件的Fluorine Polyimide（氟聚酰亚胺）和半导体制作时要用的Resist（光刻胶）和Eatchin